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Rhino 采樣

提問人:周麗平發(fā)布時間:2021-04-26
用于控制圖像每個像素的采樣數量。在大場景的渲染中,模型的自身反射與光線折射的強度或者質量都需要較高的釆樣數量。較高的采樣數量設置可以與 較高的抗鋸齒設置配合。

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