2018AE CC Smear(CC涂抹)
提問人:劉旭39發(fā)布時(shí)間:2021-02-03
2018AE CC Smear(CC涂抹)
【CC Smear(CC涂抹)】效果可以通過調(diào)整控制點(diǎn)對(duì) 両面某一部分進(jìn)行變形處理。選中素材,在菜單欄中執(zhí) 行【效果】/【扭曲】/【CC Smear(CC涂抹)】命令,此時(shí)參數(shù)設(shè)置如圖所示。
From (自):設(shè)置涂抹開始點(diǎn)的位置。
To (從):設(shè)置涂抹結(jié)束點(diǎn)的位置。
Reach (范圍):設(shè)置涂抹范圍。
Radius (半徑):設(shè)置涂抹半徑的大小。
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