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2018AE CC Smear(CC涂抹)

提問(wèn)人:劉旭39發(fā)布時(shí)間:2021-02-03

2018AE CC Smear(CC涂抹)

【CC Smear(CC涂抹)】效果可以通過(guò)調(diào)整控制點(diǎn)對(duì) 両面某一部分進(jìn)行變形處理。選中素材,在菜單欄中執(zhí) 行【效果】/【扭曲】/【CC Smear(CC涂抹)】命令,此時(shí)參數(shù)設(shè)置如圖所示。image.png

From (自):設(shè)置涂抹開(kāi)始點(diǎn)的位置。

To (從):設(shè)置涂抹結(jié)束點(diǎn)的位置。

Reach (范圍):設(shè)置涂抹范圍。

Radius (半徑):設(shè)置涂抹半徑的大小。

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